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机译:高功率脉冲磁控溅射中靶材对电流脉冲的影响
Filip Moens; Stéphanos Konstantinidis; Diederik Depla;
机译:大功率脉冲磁控溅射过程中靶材对电流脉冲的影响
机译:目标电流的峰值决定了大功率脉冲磁控溅射过程中的沉积速率损失
机译:单圆柱靶脉冲直流磁控溅射沉积功率对掺铝ZnO薄膜结构和电性能的影响
机译:高强度脉冲离子束与磁控溅射联合作用下金属材料表面层的改性
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:低温下大功率脉冲磁控溅射在铀上沉积的TiN膜
机译:目标电流的峰值幅度决定了高功率脉冲磁控管溅射过程中的沉积速率损失
机译:涂覆基底,包括将待涂覆的基底布置在靶的切割表面上,在例如20℃下通过溅射将涂料雾化。惰性气体,并通过高能脉冲磁控管改变目标成分的分布
机译:使用高能脉冲磁控管溅射法涂覆基材,包括在至少一个含铝的磁控管靶材上施加双极脉冲,以生产氧化铝涂层,以及无需外部供热的涂层
机译:在金属镀膜室中用大功率脉冲磁控溅射电源预处理和/或镀膜体,包括使电源脉冲彼此同步,并通过电源产生气体和金属离子
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